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英特尔最新工艺路线图曝光:四年内推进五个制程节点计划

英特尔最新工艺路线图看起来是非常积极的,这是一个四年内推进五个制程节点的计划。虽然帕特-基尔辛格回归英特尔担任CEO以后,蓝色巨人的表现有所起色,但鉴于过去多年来的羸弱表现,不少人对这份工艺路线图持保留态度。

近日,半导体咨询公司IC Knowledge的总裁Scotten Jones为SemiWiki撰写了一篇文章,谈及了自己对英特尔的计划从怀疑到获得信心的过程。

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Scotten Jones分析了英特尔、台积电和三星未来几年可能的半导体技术研发情况,认为英特尔随着更多地使用极紫外(EUV)光刻设备,加上在Intel 20A制程节点引入RibbonFET和PowerVia两大突破性技术,将会有一个巨大的突破。预计2024年末英特尔将推出对RibbonFET改进后的Intel 18A,那么很可能在2025年压倒台积电的N2制程节点,取得每瓦性能的领先。

标签: 工艺路线图 蓝色巨人 半导体咨询公司 英特尔最新工艺路线图

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